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凸版印刷、IBM と新たなフォトマスクプロセスの開発契約を締結凸版印刷株式会社は2008年6月20日、米国 IBM と最先端フォトマスク開発の新たな共同開発契約を締結した、と発表した。
この契約には、2007年より両社が共同開発を行っている32nm（ナノメートル：1nm は10億分の1メートル）対応フォトマスク製造プロセスの最終フェーズと、22nm 対応プロセス開発の全フェーズが包含される。 両社による共同開発は2008年6月中に、バーモント州エセックス・ジャンクションに位置する IBM のバーリントンフォトマスク工場にて開始されるという。 関連記事 関連テーマ
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