凸版印刷、IBM と新たなフォトマスクプロセスの開発契約を締結

凸版印刷株式会社は2008年6月20日、米国 IBM と最先端フォトマスク開発の新たな共同開発契約を締結した、と発表した。

この契約には、2007年より両社が共同開発を行っている32nm（ナノメートル：1nm は10億分の1メートル）対応フォトマスク製造プロセスの最終フェーズと、22nm 対応プロセス開発の全フェーズが包含される。

両社による共同開発は2008年6月中に、バーモント州エセックス・ジャンクションに位置する IBM のバーリントンフォトマスク工場にて開始されるという。