Intel、65nm プロセス対応施設に20億ドルを投入

半導体大手 Intel (NASDAQ:INTC) は19日、アイルランドでの幸運を願って、同国の自社工場に新たに緑色のドル紙幣を投じることを発表した。

Intel は、65ナノメートル (nm) 半導体製造プロセス技術に対応するため、アイルランドにある半導体製造工場 Fab 24 の施設拡大および Fab 24-2 の建設に20億ドルを投入するという。同社は4年前にも Fab 24 建設に20億ドルを投じている。

Intel はこれまでの15年間、トランジスタの集積度は18ないし24か月で倍増するという「ムーアの法則」を守り (ときにはそれを上回るペースで)、2年ごとに半導体の新たなプロセス世代を導入してきたが、今回の計画により、その記録をさらに伸ばそうとしている。

「わが社最新の300ミリウエハ製造施設 Fab 24は、生産開始間近だ。今回、同施設に新たに投資することで、顧客のニーズに対応できる最先端の製造能力を2006年にも実現できるだろう」と、Intel の Technology and Manufacturing Group 上級副社長、Bob Baker 氏は語った。

今回の投資により、約5600平方メートルの製造用クリーンルームが新たに建設される。Fab 24 にはすでに約1万2500平方メートルのクリーンルームがあり、施設の総面積は約9万2900平方メートルにのぼる。またこの20億ドルを使って新設備を導入し、既存の Fab 24 および新設する Fab 24-2 の両方で 65nm プロセス半導体の生産を可能にするという。

Intel は 90nm プロセス後の展望として、2006年までに 65nm プロセッサを、2007年までに 45nm プロセッサを、そして2009年頃には 32nm プロセッサをリリースするという暫定的なロードマップを打ち出している。