大日本印刷と Intel、マスク技術開発に関する協力関係を延長

大日本印刷は2006年1月18日、 米国半導体大手の Intel と、 32nm 世代以降の半導体製造プロセス用マスク開発で協力関係を延長する、 と発表した。

協力内容には、 光学式露光および EUV（極紫外線）露光向けの重要なマスク技術の開発が含まれる。

大日本印刷は2000年以降、 Intel と 180nm〜45nm までの半導体製造プロセスにおけるマスク開発で協力してきたが、 今回の協力関係延長で、 従来の関係を継続するとともに、両社共同の取組みをさらに強化する。

国際半導体技術ロードマップ（ITRS）では、 光学技術を採用した現行 193nm 露光の次世代技術として、 EUV 露光技術を有力なソリューションとして位置づけており、 Intel と大日本印刷の両社は EUV 露光の実現に向けて、 適切な時期にマスク技術を提供できるよう注力していく。

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